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martes, 7 de abril de 2015

curso de pattern 2015

PATTERN Y ESTAMPAS X COMPUTADORA. Martes 8 de abril en el Museo Sarmiento (cuba y juramento) 18hs. Aprenderemos a crear un modulo textil y su correspondiente rapport. Aprenderemos a vectorizar estampas. A trabajar desde un dibujo o desde una foto.Aprenderemos a levantar modulos de textiles ya existentes. Separacion de colores ,cuatricromias,preparacion de archivos para sublimacion y serigrafia. Collages textiles y mucho mas!! Te esperamos!

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